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参观结束,众人都心情复杂,谁也没想到恒创集团会这时候拿出光刻机啊,华国芯片竟然能做到全部国产,并且世界领先!
要知道32纳米,目前就是最顶尖的芯片,英特尔最新产品都用的这个。
英特尔是全球最大的个人计算机零件和半导体芯片制造商之一,拥有自己的晶圆制造工厂,不过他们的光刻机也是阿斯麦买来的,并且现在世界上最先进的光刻机还是深紫外线(dUV)光刻机。
他们能造32纳米芯片是用了193nm沉浸式光刻技术,目前正在研发22纳米工艺,但依旧会使用193纳米波长的深紫外线。
等到2017年,阿斯麦才将EUV(极紫外线)光刻机量产,而现在陆恒的光刻机技术对标的正是EUV光刻机。
别看现在生产的是32纳米,可只要升级一些光刻机的零部件,陆恒很快就能推出22纳米。
按照前世的发展,不管是英特尔还是三星蛙机电芯片制程升级都是缓慢过程,2012年英特尔会使用dUV光刻机率先制造出22纳米芯片。
再过一两年,三星和蛙机电技术升级,推出16纳米芯片。
15年英特尔三星蛙机电三家厂商都推出了14纳米芯片,到了17年推出10纳米芯片,也是从这时候开始用了EUV光刻机技术升级速度加快。
18年就进入了7纳米时代,但已经快到极限了,随后又过了两三年,2020年以后才出现5纳米制程芯片。
也是陆恒前世穿越时,最先进的芯片技术。
更先进的3纳米技术一直到2024年,还在研发中。
陆恒现在这套技术融合了多条技术路线,由系统优化而来,包含了x光射线、纳米压印,还用到了水滴光源技术,对标的是7年后量产的EUV光刻机。
与之相比最大的优点便是可以快速升级,没有技术阻碍。
不像是现在主流使用的dUV光刻机,就算再怎么技术改进,也没办法造10纳米以下的芯片。
陆恒的技术却不存在这个问题,只要升级关键部件就能沿着技术路线一直用到5纳米甚至3纳米。
新的光刻机还没有命名,刚好参观时别人也问起这项技术的名字,陆恒想了想说道:“我们光刻机叫做水滴光刻机,和dUV光刻机还有阿斯麦研发的EUV光刻机相比,光源上已经领先好几代。”
“现在生产的是32纳米芯片,到很快就可以升级,几年内达到10纳米左右,到时候32纳米现在高端手机使用的芯片,都会变成低端芯片,你们可以用在电视洗衣机扫地机器人等等产品上。”
“再结合我们研祥推出的通讯技术,万物互联时代智能时代很快将到来!”
陆恒没有公开AI成果,等到AI结合无数使用芯片的智能产品,那才是真正的智能时代。
前世陆恒有件事一直没想通,可能是他当时站的高度格局不一样,不知道为什么海外的公司将AI训练模型全都公开了,一个资深程序员甚至用自己的电脑租用服务器都能训练AI大模型。
他现在就拥有这种技术,但完全没有公开的想法。
陆恒也想过,公开AI大模型技术难道是为了建立标准,或者是引爆整个产业做大蛋糕?
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