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第321章 沪上和东江为争夺华芯打起来啦（第2页）

梁孟松摇摇头：“不好说，但是最短时间内做到中芯这个地步没问题，再往上追赶台积电就有些难了。不仅需要人才资金，还需要设备和研发，最重要的是底蕴。”

张汝京点头：“我也这么觉得，但我还是不甘心，无论如何我要把华芯带出来，给张忠谋看看，狠狠打他的脸。”

二老的敌人都是相同的，但也有区别。

比如张汝京更讨厌的是张忠谋，因为张忠谋先是收购了他一手创建的世大半导体，随后又各种找他麻烦，更是将张老赶出了他一手带出来的中芯。

十年梦断！

至于梁孟松对虽然也不喜欢张忠谋，但谈不上多么讨厌，他心里厌恶的只有“恩师”蒋尚义。

他为了击败台积电，不惜前往三星，投靠棒子，你就知道这得有多恨了。更甚至后来蒋尚义要来中芯，他立即就要辞职，感觉到了背叛。

梁孟松话音一转：“不过这的确是最佳的机会了，小陈总对我们信任，愿意放权，给了我们很好的待遇，公司内部也没有其他力量掣肘，如果这都做不出来，那真是丢了老脸了。”

…………

送走了张汝京和梁孟松，陈平江松了口气，可算是搞定了这二位，这样一来，骨干人才就解决了。

剩下的只需要到时候招募一些相关专业的毕业生当后背梯队，再加上招一些一线操作员工即可。

这次见面也意味着华芯项目正式立项。

开弓没有回头箭。

真的到这事后，陈平江才感受到肩头沉甸甸的压力。

接下来的各项支出都是海量的，而除了资金外，其他每一样陈平江都要身体力行的参与。

光是一座12寸晶圆厂的总体造价就不会低于25亿美元，算上后续购买原物料，保底不少于30亿美元。

这可不是陈平江瞎估计，台积电2016年在南京设立的全资子公司就投资了30亿美金。

当然了，台积电的设备里包含了最先进的euv（极紫），而现在这个节点全世界只能买到duv（深紫），但人家台积电是老手，华芯只是个新徒弟什么都要学，都会产生成本。

甚至可能买设备都要被宰。

其中建设成本是大头，包括设备购置、厂房建设、人员培训、技术研发等。不同环节的成本因技术难度、市场需求和地域差异等因素而有所不同，此外还有产品良率的问题。

总体而言，晶圆厂建设成本较高，但随着技术进步和市场规模的扩大，成本也会逐渐降低。

其中，厂房建设需要考虑地理位置、环保要求、安全标准等因素。

而制造设备具体又包括氧化炉、cvd设备、pvd设备、真空蒸镀设备、be设备、液相外延设备、ald设备、电化学镀膜设备、涂胶设备、曝光机、显影设备、光刻机、干法蚀刻设备、湿法蚀刻设备、p设备、离子注入机、清洗设备等。

这些设备分别负责晶圆的氧化、沉积、光刻、刻蚀、离子注入扩散等步骤。

现在才2011年，类似北方华创、中微半导体、中电48所、中电45所等一系列的国内设备商才刚刚起步。

想买只能找国外。

在制造过程中，最主要、价值最昂贵的三类分别是沉积设备，包括pecvd，lpcvd等、刻蚀设备、光刻机，占半导体晶圆厂设备总投资的15、15、20-25。

几乎垄断了高端光刻市场份额高达80的asl，在cvd设备和pvd设备领域都保持领先的美国应用材料（aat）以及刻蚀机设备领域龙头research稳坐前三。

想买，而且买好的，绕不开他们。当然有些设备也可以去找小日子的尼康、dns、日立高新去买。

其中，国人最熟悉的莫过于光刻机和其主要生产商asl。

光刻机的作用说的简单点，就是通过一系列的手段，将线路图成比例缩小后照射到硅片上，然后显影，最终得到在硅片上的电路图。

经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。

后来华为的那张麒麟9000s，就是用了多重曝光的技术。

其中多重曝光技术早就有了，不过被认为没什么价值，因为可以通过其他方式做到更精密的芯片。

也只有华为被逼的没办法，使用这一技术，并且有重大突破。

毕竟，多重曝光良率很难保证，良率无法保证，成本就上来了。

光刻机绕不开asl，其在世界同类产品中有80的市占率。

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